半導體產品清洗超純水設備,超純水裝置,超純水處理設備;半導體芯片清洗超純水設備,超純水裝置,超純水處理設備*鸞江水處理設備。 新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。我公司設計的超純水設備采用成熟、可靠、*、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。 制備半導體產品清洗純水設備的工藝流程: 1、采用離子交換制取超純水的方式 原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點 2、采用反滲透與離子交換設備制取超純水的方式 原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點 3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備制取超純水的的方式 原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。 超純水設備適用于半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路,電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗, 電子管生產,顯像管生產、配料用純水,顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水,液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液,硅片清洗,另有少量用于藥液配制,集成電路生產中高純水清洗硅片,LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏,高品質顯像管、螢光粉生產,半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗,超純材料和超純化學試劑、超純化工材料,實驗室和中試車間,汽車、家電表面拋光處理,光電產品、其他高科技精微產品用純水。 更多去離子水設備http://www.water-lj.com 更多純水系統http://www.luanjiang0769.com |