超純水設備系統在半導體晶片制造過程中重起到至關重要的作用。在一個生產周期內，一個晶片與超純水的接觸超過35次，在任何一個環節發生供水中斷或者水質不合格都會影響晶片的質量，甚至導致產品的報廢。GLOBALFOUNDRIES需要全天候可靠的超純水生產系統來實現高品質半導體晶片的可持續生產。 超純水設備是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環保技術。這一新技術可以代替傳統的離子交換，生產出電阻率高達18 MΩ·cm的超純水 。超純水設備系統具有連續出水、無需酸堿再生、出水水質穩定，模塊能耗少，節約運行費用，容易實現在整體式的模塊排列，重量輕，結構緊湊，和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多地在各大行業中得到推廣。
根據行業的不同要求，制取超純水工藝大致分為以下四種： 1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾→陰樹脂過濾→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調節→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點 4、原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點 超純水設備的工藝特點： 在設備設計上，采用成熟、可靠、*、自動化程度高的兩級反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質符合要求，水利用率高，運行可靠，經濟合理。關鍵設備及材料均采用主流*可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。水質符合純化水標準、符合GMP標準、美國ASTM純水水質標準、我國電子工業水質技術標準、電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、國內外大規模集成電路水質標準，適用于各個行業使用的超純水水質標準。
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