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EDI超純水設備，東莞EDI超純水設備， EDI水處理設備，超純水設備，超純水裝置，超純水制取設備
一、LED概述：
LED、LCD顯像管、液晶顯示器、和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。
二、LED光學EDI超純水設備對水質的要求：
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
三、LED光學EDI超純水設備工藝大致分為以下幾種：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點 （≥18MΩ.CM）（傳統工藝）
2、預處理→反滲透系統→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）（工藝）
3、預處理→一級反滲透→PH調節→中間水箱→二級反滲透→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）（工藝）
4、預處理→反滲透系統→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）（工藝）
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）（傳統工藝）
四、LED光學EDI超純水設備說明：
在設備設計上，采用成熟、可靠、*、自動化程度高的二級反滲透＋EDI＋混合床水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流*可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
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