1、在低壓下，當陰極和陽極間加上高壓時，引起場致發射。

2、在電、磁場作用下電子作螺旋運動。

3、電子與氣體分子碰撞產生正離子和二次電子，引起雪崩效應。正離子轟擊鈦陰極，濺散出鈦原子落在陽極筒上，形成新鮮鈦膜，也有的落在陰板外圍區(β區)。

4、活性氣體與新鮮鈦膜反應形成化合物，化學吸附在陽極筒內壁。隋性氣體被電離，離子在電場作用下轟擊陰極過程中被排出。其排除方式為：
1)離子直接打入陰極表面內或β區，斜射的離子切入陰極表面，離子和鈦一起被掀掉，埋葬在β區，
2)離子沒打入陰極內，從陰極得一電子恢復為中性原子或分子，反射到陽極內表面被埋掉，這叫“荷能中性粒子反射”。

5、對于氫，由于其質量小，氫離子轟擊鈦板的濺射產額甚低，氫離子 H2+ 或 H+ 打到鈦板上與電子復合變成H原子，然后擴散入鈦的晶格內，形成TiH固溶體而被排出。常溫下這種固溶體中H2的濃度為0.05％，當溫度高于250oC以上時，便又開始分解放出氫。鈦大量吸氫后。由于放熱反應鈦板溫度上升，達到250oC以后，除重新釋放氫之外并導致鈦板晶格膨脹造成龜裂。通常需加大鈦板的散熱能力來改善濺射離子泵對氫的排除能力。要提高對氫的抽速，需保持鈦板表面清潔，選用晶格常數較大的β-Ti或鈦合金作為陰極板，或引入與氫可比擬的氬含量。因氬的濺散產額高，可提高對氫的抽速。